芯片厂酸性废气怎么处理方法|芯片厂酸性废气处理案例
一、集成ic厂呈酸性烟气情况
电源芯片生产加工进程中会存在一大批含酸性排放物,基本特征于刻蚀、除污、蔓延等技艺缓解。哪些排放物组分有难度,通畅还有低于这么几种:
氟化物(HF、SiF₄等)
:具体基刻蚀艺,兼有强浸蚀性和毒素。
氯化氢(HCl)
:最常出现在刷洗和刻蚀具体步骤,溶解于水转变成偏酸水溶液。
硫酸钠雾(H₂SO₄)
:多使用于晶圆进行维护清洁,尾气中含有微小液滴,易型成酸雾。
氮脱色物(NOx)
:的部分较高温度艺会所产生NOx,有刺激到性且易产生光生物烟尘。
哪些烟气一方面生锈设施设备,还有机会对学习环境容易造成造成 造成的污染,往往须得路经快速外理也能排放出。
二、弱酸性气体解决步骤与步骤
(1)工作重难点
物质复杂的
:有所不同艺带来的有机废气组成成分对比分析大,需争性方面净化处理。
有机废气浓度动荡大
:生孩子具体步骤中烟气的排股票放量不维持,对治疗主设备的适用于性追求高。
腐蚀不锈钢性强
:含酸性气感想的腐蚀性排水管道和机,需选取耐的腐蚀性食材。
直接排放规范严格执行
:电子器件厂平常需实现《大气层破坏物综合评估排放物标》(GB 16297-1996)等法律法规规范。
(2)加工事项
预治疗
:适用自动喷淋系统塔或干试降解消除大颗粒状物和这部分偏酸有机废气气体。
关键解决
:较常用湿式洗衣(碱液结合)、吸附物法(渗透性炭、分子结构筛)或引燃法(RTO)。
后解决
:除雾保护装置删去小液滴,加强组织领导及格进行排放。
自动化化抑制
:实时时间监测器尾气氧化还原电位,修正解决产品参数以加快生产率。
三、经典传奇案例分享解密
的例子1:某国际上存储芯片大公司氟化氢(HF)废气排放加工好项目
的废气特征
:
首要成分表:HF(质量浓度50-200mg/m³)、轻微SiF₄
新风量:20,000m³/h
工作温度:普通
净化处理情况报告
:
二级消防喷淋溶解
:
首个级通过NaOH饱和溶液喷淋清洗,清掉大位置HF。
2、级用Ca(OH)₂水溶液进一歩处理,出现CaF₂滤渣。
除雾装制
:便捷人造纤维除雾器取除连带液滴。
自行化管控
:pH线上监控,主动投药加强组织领导采和速率。
治理 特效
:
HF释放盐浓度<1mg/m³,去掉率>99%。
程序启用增强,维护与保养成本费用低。